“第一个，需要高精度的光刻机。现在你们这两台，是没有办法。但是他们上不了生产线。要新型号的，精度至少要达到10微米级别。”

当前在国际上的主流光刻机的精度，已经达到了0.5μm（微米），也就是 500nm（纳米）。

led用不到这么高的精度，后世最高的led光刻机的精度，也才 800nm 左右。而在这个时代，led光刻机，只要精度在 10μm之下，就可以接受了。

在当前的led产业链里，单独提高光刻机精度未必有用，因为后续的工艺环节，精度上不来。继续提高精度，就已经超出了人可以操作的范围。

从资料上看，这个时代的国产光刻机，已经可以达到2~3μm的精度，作为led光刻机，是富富有余。

但是，这话，要看跟谁讲。科仪的这种实验室用光刻机，其精度嘛，成永兴居然不知道该用什么词来形容，也许是 1mm?也就是 1000μm?

“第二个呢？”

“第二个，我需要定制一台大光刻机。”

向下一个技术节点冲锋的条件已经具备，可以先期着手做些准备工作了。

“大光刻机？多大算大？”

刘民学听说过光刻机的指标，都是以精度为单位，例如毫米，微米，纳米但首次听说有用《大》这个定语的。

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“12英寸！可以光刻12英寸的光刻机。”

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