蓝河科技最基础的部署战略已走出第一步, 一条攻破高阶国产光刻机技术的科技链已雏形，接下来的技术攻破才重中之重的难点。

盛明安和沈问冰谈完具体的细节以及一些arf光刻胶技术难点的后，离开甬城, 回到津市, 而沈问冰就arf光刻胶及配套材料研发项目收集资料，准备申请立项, 估计通过e率很高。

高端光刻胶及配套材料的研发和产业化本来就在国家02专项项目里，按前世轨迹, arf光刻胶（193nm光刻胶）将在年后由南大光电申请通过立项, 获得国家科研基金资助，于立项后的两年内完成验收。

现在盛明安介入, 也只提前让arf光刻胶被研发出来，研发团队和专项所属权仍然属于原主。

盛明安完成初步战略部署后, 马停蹄赶回蓝河科技研发部准备光源系统的研发，e乎没停下来喘口气的机会。

只他，整蓝河科技所人都像陀螺似的忙得晕头转向。

系统好奇盛明安为什自己独立攻破光刻机所核心技术？

他前世的记忆，他熟知光刻机e十上百项核心技术，足以轻而易举的攻破, 而必像现在这样全国四处寻找科研团队, 费尽口舌说服他们跟蓝河科技合作。

如盛明安一人研发出光刻机, 所专利都将属于他。

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